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高性能氮化鎵基電子材料

關(guān)鍵字：微電子氮化鎵

所屬行業(yè)：機(jī)械、電子信息、先進(jìn)裝備制造

發(fā)布時間：2015-06-02

價格：

所在地區(qū)：北京海淀區(qū)

合作信息期限：2016年12月

合作信息類型：意向合作

機(jī)構(gòu)類型：企業(yè)

供求關(guān)系：供應(yīng)

合作信息簡介：【技術(shù)領(lǐng)域】微電子與電子信息　　【技術(shù)開發(fā)單位】中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所　　【技術(shù)簡介】采用金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積（MOCVD）方法，在藍(lán)寶石或碳化硅襯底上外延高性能氮化鎵（GaN）基電子材料。　　【技術(shù)特點(diǎn)】采用本技術(shù)制備GaN基電子材料，生長速度快，產(chǎn)量高，質(zhì)量、重復(fù)性和均勻性..

發(fā)布機(jī)構(gòu)：中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所

共1頁總數(shù)：2條

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